Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 61-80
      Volume 80
      Volume 79
      Volume 78
      Volume 77
      Volume 76
      Volume 75
      Volume 74
      Volume 73
      Volume 72
      Volume 71
      Volume 70
      Volume 69
      Volume 68
      Volume 67
      Volume 66
      Volume 65
      Volume 64
      Volume 63
      Volume 62
      Volume 61
Search
VOLUME 66 (1997) | ISSUE 1 | PAGE 27
Эффект разрушения и появления поверхностной металлизации в системе K/Si(111)7×7
Качественные изменения характера поверхностной электронной структуры обнаружены при адсорбции калия на поверхности Si( 111)7x7. На ранних стадиях адсорбции происходит разрушение металлического типа проводимости поверхности Si( 111)7x7. Ниже уровня Ферми обнаружена новая зона, индуцированная адсорбцией калия. Установлено, что интерфейс K/Si(ll 1)7x7 является полупроводниковым вплоть до насыщающего покрытия. В области насыщающего покрытия обнаружен поверхностный переход из изоляторного состояния в металлическое с одновременным пипнингом уровня Ферми. Реализация металлического типа проводимости осуществляется в адсорбированном слое калия за счет развития индуцированной поверхностной зоны на уровне Ферми. PACS: 73.20.-i, 79.60.Dp