Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 61-80
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
      Volume 20
      Volume 19
      Volume 18
      Volume 17
      Volume 16
      Volume 15
      Volume 14
      Volume 13
      Volume 12
      Volume 11
      Volume 10
      Volume 9
      Volume 8
      Volume 7
      Volume 6
      Volume 5
      Volume 4
      Volume 3
      Volume 2
      Volume 1
Search
VOLUME 19 (1974) | ISSUE 12 | PAGE 742
Положительная кривизна в зависимости Hc2 от Т в слоистых сверхпроводниках - следствие джозефсоновского взаимодействия слоев
Показано, что экспериментальные данные для зависимости верхнего критического поля от температуры в интеркалирован-ном слоистом сверхпроводнике CsQ 3MoS2 указывают на реализацию в этом соединение джозефсоновского взаимодействия слоев.