Фотонные кристаллы с заданной шириной запрещенной зоны
В. В. Абрамова, А. С. Синицкий, Ю. Д. Третьяков
Факультет наук о материалах, Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова, 119991, Москва, Россия
PACS: 42.70.Qs
Abstract
Предложен новый метод создания фотонных кристаллов с
тщательно контролируемой шириной фотонной запрещенной зоны. Метод основан на
синтезе фотонного кристалла типа A1-xBx с контролируемым значением
параметра x на основе двух изоструктурных фотонных кристаллов А и B, таких,
что ширина фотонной запрещенной зоны кристалла А меньше, а кристалла B -
больше требуемой. Метод продемонстрирован на примере инвертированного опала
состава (100-x) мол. %
SiO2 - x мол.% ZnO,
для которого относительная ширина стоп-зоны монотонно возрастала при
увеличении параметра x.