Релаксация механических напряжений в массиве квантовых точек Ge, полученных в Si
А. Б. Талочкин, В. А. Марков, В. И. Машанов
Институт физики полупроводников Сибирского отд. РАН, 630090 Новосибирск, Россия
PACS: 73.21.La
Abstract
Исследовано комбинационное рассеяние света (КРС) на
оптических фононах в Si/Ge/Si структурах с квантовыми точками (QD)
Ge, выращенными с помощью молекулярно лучевой эпитаксии в области
низких температур 200-300°C. Получено псевдоморфное
состояние массива QD Ge к Si матрице с идеально резкой границей
раздела. В спектрах КРС обнаружены особенности, связанные с
неупругой релаксацией механических напряжений. Выделены два
механизма релаксации напряжений. Показано, что в результате
неоднородного характера релаксации спектр электронных состояний
массива значительно отличается от набора дискретных уровней
отдельной QD.