Аномальное рассеяние и каналирование рентгеновского излучения внутри полых микрокапиллярных структур
М. И. Мазурицкий, П. В. Махно
Южный федеральный университет, 344090 Ростов-на-Дону, Россия
PACS: 42.50.+h, 61.85.+p, 78.70.Ck, 78.70.Dm, 78.70.En
Abstract
Исследованы рентгеновские Si L2,3 - спектры XANES и спектры
отражения, полученные при скользящем падении излучения на стеки каналов
микроканальных пластин. В длинноволновой рентгеновской области
при аномальном рассеянии в окрестности L-краев поглощения кремния
обнаружено каналирование вторичного излучения, спектральный состав
которого не изменяется на выходе микроканалов. Поверхностно связанное
распространение рентгеновской флуоресценции, возбуждаемой внутри
микроканалов, возникает при углах падения, меньших
.