Энергетический порог Cs-индуцированной хемосорбции кислорода на поверхности GaAs(Cs, O)
К. В. Торопецкий, О. Е. Терещенко, А. С. Терехов
Институт физики полупроводников Сибирского отд. РАН, 630090 Новосибирск, Россия
Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
PACS: 29.30.Dn, 33.15.Fm, 65.40.Gh, 68.43.Mn, 68.47.Fg, 81.05.Ea
Abstract
Экспериментально установлено, что вероятность
Cs-индуцированной хемосорбции кислорода на поверхности
p-GaAs(Cs,О) близка к единице только тогда, когда работа выхода
полупроводника не превышает эВ. Измеренное
положение энергетического порога адсорбции соответствует,
по-видимому, энергии незаполненного уровня антисвязывающей
2π*-орбитали молекулы О2, находящейся в
предадсорбционном состоянии на поверхности полупроводника.