Новые Ga-обогащенные реконструкции на поверхности GaAs(001)
О. Е. Терещенко*, К. В. Торопецкий*, С. В. Еремеев+, С.Е. Кулькова+
*Институт физики полупроводников Сибирского отд. РАН, 630090 Новосибирск, Россия
*Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
+Институт физики прочности и материаловедения Сибирского отд. РАН, 636021 Томск, Россия
+Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия
PACS: 61.05.Jh, 67.63.Gh, 68.47.Fg, 81.05.Ea
Abstract
Поверхности GaAs(001), покрытые собственными оксидами,
экспонировались в потоке атомарного водорода в температурном
интервале 280-450 °C с целью низкотемпературного
приготовления структурно упорядоченных поверхностей GaAs(001).
Приготовлены новые Ga-обогащенные поверхности GaAs(001) с
реконструкциями (4×4) и (2×4)/c(2×8), которые
были изучены методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии,
дифракции медленных электронов и спектроскопии характеристических
потерь энергий электронов высокого разрешения. Для поверхности
GaAs(001)-(2×4) предложена и рассчитана из первых принципов
структура Ga-стабилизированной поверхности в модели элементарной
ячейки (2×4) Ga-тример.