|
VOLUME 92 (2010) | ISSUE 6 |
PAGE 420
|
Резонансное микроволновое фотосопротивление в двухподзонной электронной системе при больших факторах заполнения
А. А. Быков, Е. Г. Мозулев*, А. К. Калагин
Институт физики полупроводников Сибирского отд. РАН, 630090 Новосибирск, Россия *Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
Abstract
Исследовано микроволновое фотосопротивление в двойной GaAs квантовой яме с
двумя заполненными подзонами размерного квантования E1 и E2 при
температурах T = 1.6 - 4.2 K в магнитных полях B < 0.5 Тл.
Установлено, что микроволновое фотосопротивление в такой системе имеет максимальную
амплитуду в условиях, когда максимум магнето-межподзонных осцилляций с номером
совпадает с максимумом или минимумом
ω/ωc-осцилляций, где ω - круговая частота микроволнового излучения,
ωc - циклотронная частота. Показано, что резонансное фотосопротивление,
возникающее в максимумах магнето-межподзонных осцилляций с номером k, определяется
условием: , где k и j - целые положительные числа.
|
|