Оптическое детектирование электрического поля в n-i-n GaAs/AlGaAs-гетероструктуре с двойными квантовыми ямами
В. Я. Алешкин, Л. В. Гавриленко, Д. М. Гапонова, З. Ф. Красильник, Д. И. Крыжков, Д. И. Курицын, С. М. Сергеев, В. Г. Лысенко+, C. B. Soerensen*
Институт физики микроструктур РАН, 603950 Нижний Новгород, Россия
+Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов, 142432 Черноголовка, Россия
*Nano-Science Center, Niels Bohr Institute, University of Copenhagen, 2100 Copenhagen Ø, Denmark
Abstract
Оптическими методами исследовались процессы, возникающие при
приложении постоянного поперечного электрического поля к n-i-n-
гетероструктуре
GaAs/AlGaAs с одиночными
квантовыми ямами и асимметричными двойными туннельно-связанными квантовыми
ямами.
Различие в энергиях экситонных переходов для квантовых ям разной ширины
позволило соотнести наблюдавшиеся пики фотолюминесценции с каждой конкретной
парой ям
или одиночной квантовой ямой. По величине штарковского сдвига и расщепления
экситонных линий в широком
диапазоне внешнего электрического напряжения было определено локальное для
каждой
квантовой ямы
значение электрического поля. Предложена качественная модель, объясняющая
возникновение
немонотонного распределения электрического поля по глубине гетероструктуры.