Влияние внешнего электрического поля на кинетику рекомбинации фотовозбужденных носителей в гетероструктуре 2-го типа ZnSe/BeTe
Е. В. Филатов, А. А. Максимов, И. И. Тартаковский, Д. Р. Яковлев+×, В. Вааг*
Институт физики твердого тела РАН, 142432 Черноголовка, Россия
+Experimentelle Physik II, Technische Universität Dortmund, 44227 Dortmund, Germany
×Физико-технический институт им. Иоффе РАН, 194021 С.-Петербург, Россия
*Institute of Semiconductor Technology, Braunschweig Technical University, D-38106 Braunschweig, Germany
Abstract
Исследована кинетика излучательной рекомбинации фотовозбужденных
электронов и дырок для пространственно прямого перехода в гетероструктуре
2-го типа ZnSe/BeTe при приложении внешнего электрического поля. Обнаружены
значительное (в сотни раз) уменьшение интенсивности фотолюминесценции (ФЛ) и
уменьшение длительности свечения прямого перехода при приложении электрического
поля. Проведены численные расчеты уровней энергии и волновых функций электронов
и дырок при приложении электрического поля к гетероструктуре ZnSe/BeTe.
Показано, что наблюдаемое уменьшение интенсивности ФЛ и длительности свечения
прямого перехода связано как с возрастанием времени излучательной рекомбинации,
так и с увеличением скорости ухода фотовозбужденных дырок с надбарьерного уровня
в слое ZnSe в слой BeTe.