Аномальная температурная зависимость диффузии в кристаллах во внешних периодических полях
И. Г. Марченко+, И. И. Марченко*
+Харьковский физико-технический институт, 61108 Харьков, Украина
*Харьковский политехнический институт, 61007 Харьков, Украина
Abstract
В работе методами компьютерного моделирования исследованы особенности
диффузии частиц, находящихся под действием внешней периодической силы, в
кристаллической решетке. Показано, что с изменением температуры их коэффициенты диффузии ведут себя
аномальным образом. В некоторых температурных
интервалах диффузия может возрастать с понижением температуры. Расположение и
ширина этих интервалов зависят от частоты внешнего поля. Установлено, что
величина коэффициента диффузии под действием внешнего периодического поля
может возрастать более чем на девять порядков по сравнению с обычной диффузией
при той же температуре. Проанализированы физические причины такой аномалии.