Home
For authors
Submission status

Archive
Archive (English)
Current
   Volumes 113-119
   Volumes 93-112
      Volume 112
      Volume 111
      Volume 110
      Volume 109
      Volume 108
      Volume 107
      Volume 106
      Volume 105
      Volume 104
      Volume 103
      Volume 102
      Volume 101
      Volume 100
      Volume 99
      Volume 98
      Volume 97
      Volume 96
      Volume 95
      Volume 94
      Volume 93
Search
VOLUME 98 (2013) | ISSUE 12 | PAGE 957
Распыление металлов при ионно-электронном облучении
DOI: 10.7868/S0370274X13240193
Abstract
Обнаружено, что вопреки общепринятому представлению одновременное облучение ионами Ar+ (15 кэВ) и электронами (2.5 кэВ) при температурах выше 0.5Tm (Tm - температура плавления) вызывает значительно большее распыление металлов Cu, Ni и стали, чем облучение только ионами Ar+. Эффект нарастает с ростом температуры. При T= 0.7Tm коэффициенты ионно-электронного распыления превышают коэффициенты распыления только ионами Ar+ более чем в 2 раза. Эксперименты по изучению сублимации меди показали, что при нагреве образца электронным пучком скорость сублимации больше, чем при нагреве в электровакуумной печи. Обнаруженные эффекты объясняются возбуждением электронами адатомов (выступающих над поверхностью атомов, которые создаются ионной бомбардировкой). Возбужденные адатомы имеют меньшую энергию связи с поверхностью и легче распыляются.