Home
| VOLUME 99 (2014) | ISSUE 9 | PAGE 611 |
|---|
|
Исследование структурных и магнитных характеристик эпитаксиальных пленок Fe3Si/Si(111)
И. А. Яковлев+, С. Н. Варнаков+*, Б. А. Беляев+*×, С. М. Жарков+×, М. С. Молокеев+, И. А. Тарасов+*, С. Г. Овчинников+*×
+Институт физики им. Киренского СО РАН, 660036 Красноярск, Россия *Сибирский государственный аэрокосмический университет им. Решетнева, 660014 Красноярск, Россия ×Сибирский федеральный университет, 660041 Красноярск, Россия
Abstract
Представлены результаты структурных и магнитных исследований эпитаксиальной структуры, полученной при одновременном напылении из двух источников железа и кремния на атомарно чистую поверхность Si(111)7×7 при температуре подложки 150 °С. Методами рентгеноструктурного анализа, просвечивающей электронной микроскопии и дифракции отраженных быстрых электронов эпитаксиальная структура идентифицирована как монокристаллическая пленка силицида Fe3Si с ориентацией Si[111]  Fe3Si[111]. Установлено, что эпитаксиальная пленка
Fe3Si при комнатной
температуре обладает магнитной одноосной анизотропией (Ha=26 Э) и имеет
сравнительно узкую линию однородного ферромагнитного резонанса
(Δ H=11.57 Э),
измеренную на частоте накачки 2.274 ГГц.
|