Сечение поглощения для перехода 4I15/2→4I13/2 ионов Er3+ в эпитаксиальных слоях Si:Er:O/SOI
К. Е. Кудрявцев, Д. И. Крыжков, Л. В. Красильникова, Д. В. Шенгуров, В. Б. Шмагин, Б. А. Андреев, З. Ф. Красильник
Институт физики микроструктур РАН, 603950 Н.Новгород, Россия
Нижегородский государственный университет им. Лобачевского, 603950 Н.Новгород, Россия
Abstract
Проведены прямые измерения оптических
потерь, обусловленных взаимодействием излучения с оптически активными ионами
Er3+ в эпитаксиальных волноводных структурах Si:Er/SOI.
Сечение излучательного перехода 4I13/2 → 4I15/2 иона
Er3+ оценено на уровне
см2 при
T=300 K и см2 при
T=10 K.