Электронная эмиссия и сверхбыстрое низкопороговое плазмообразование при одноимпульсной фемтосекундной лазерной абляции поверхности материалов
A. A. Ионин+, С. И. Кудряшов+*, С. В. Макаров+∇, П. Н. Салтуганов+×, Л. В. Селезнев+, Д. В. Синицын+, В. А. Леднев°, С. М. Першин°
+Физический институт им. Лебедева РАН, 119991 Москва, Россия
*Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", 115409 Москва, Россия
×Московский физико-технический институт (государственный университет), 141700 Долгопрудный, Россия
°Институт общей физики им. Прохорова РАН, 119991 Москва, Россия
∇Университет ИТМО, 197101 С.-Петербург, Россия
Abstract
Эмиссия эрозионной плазмы обнаружена при электрических коллекторных и
оптико-эмиссионных спектральных исследованиях продуктов одноимпульсной
фемтосекундной лазерной абляции поверхности оптического качества различных
материалов (меди, титана, кремния) существенно ниже пороговой плотности энергии
для термической абляции этих материалов. Она сменяет преимущественно электронную
эмиссию при меньших плотностях энергии. Появление эрозионной плазмы
коррелирует с насыщением зависимостей от плотности энергии коэффициента отражения самих
мощных возбуждающих фемтосекундных лазерных импульсов накачки, отвечая
"замораживанию" параметров (плотности, температуры носителей) электронной
подсистемы материалов в масштабе возбуждающего ультракороткого лазерного
импульса при монотонно растущей плотности энергии накачки.