Home
For authors
Submission status

Archive
Archive (English)
Current
   Volumes 113-119
   Volumes 93-112
      Volume 112
      Volume 111
      Volume 110
      Volume 109
      Volume 108
      Volume 107
      Volume 106
      Volume 105
      Volume 104
      Volume 103
      Volume 102
      Volume 101
      Volume 100
      Volume 99
      Volume 98
      Volume 97
      Volume 96
      Volume 95
      Volume 94
      Volume 93
Search
VOLUME 103 (2016) | ISSUE 1 | PAGE 44
Исследование методом ФМР анизотропных свойств эпитаксиальной пленки Fe3Si на вицинальной поверхности Si(111)
DOI: 10.7868/S0370274X16010082
Abstract
Методом ферромагнитного резонанса измерены анизотропные характеристики эпитаксиальной тонкой магнитной пленки силицида железа Fe3Si, выращенной на вицинальной поверхности кремния Si(111) с углом разориентации 0.14°. Показано, что по угловым зависимостям поля ферромагнитного резонанса эпитаксиальной пленки можно определить одновременно полярный и азимутальный углы разориентации кристаллографической плоскости подложки. Определены значения эффективной намагниченности насыщения пленки Meff=1105 Гс и константы кубической магнитокристаллической анизотропии K4=1.15•105 эрг/см3. Разориентация плоскости подложки приводит к образованию ступенек на поверхности пленки и, как следствие, к возникновению одноосной магнитной анизотропии магнитодипольной природы, константа которой K2=796 эрг/см3. Обнаружена небольшая однонаправленная магнитная анизотропия (K1=163 эрг/см3), возникновение которой может быть связано с нарушением симметрии на ступеньках пленки и обусловлено взаимодействием Дзялошинского-Мория.