Импульсная фотопроводимость алмаза при квазистационарном возбуждении лазерным излучением на 222 нм в условиях существования электронно-дырочной жидкости
Е. И. Липатов, Д. Е. Генин, В. Ф. Тарасенко
Институт сильноточной электроники СО РАН, 634055 Томск, Россия
Abstract
В поликристаллическом алмазном образце, синтезированном методом
газохимического осаждения, наблюдалось
увеличение тока импульсной фотопроводимости на порядок величины в
условиях существования электронно-дырочной жидкости. Возбуждение
неравновесных носителей заряда производилось лазерным излучением на длине
волны 222 нм длительностью 18 нс на полувысоте с пиковой интенсивностью
более 2.5 МВт/см2 и при охлаждении образца до 90 К. При воздействии
излучением с пиковой интенсивностью менее 1 МВт/см2 охлаждение
образца от 300 до 90 К вызывало уменьшение тока импульсной
фотопроводимости в раз. Предположено, что наблюдавшееся
увеличение тока импульсной фотопроводимости связано с конденсацией
электронно-дырочной жидкости.