Селективное усиление фототока дырок поверхностными плазмон-поляритонами в слоях квантовых точек Ge/Si
А. И. Якимов+*, В. В. Кириенко+, В. А. Армбристер+, А. В. Двуреченский+×
+Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
*Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия
×Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
Abstract
Обнаружено, что интеграция гетероструктур Ge/Si, содержащих слои
квантовых точек Ge, с двумерными регулярными решетками субволновых отверстий
в золотой пленке на поверхности полупроводника приводит к многократному (до
20 раз) усилению фототока дырок в узких областях длин волн фотонов среднего
инфракрасного диапазона. Результаты объяснены возбуждением световой волной
поверхностных плазмон-поляритонов на границе раздела металл-полупроводник,
эффективно взаимодействущих с внутризонными переходами дырок в квантовых
точках.