Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 61-80
      Volume 80
      Volume 79
      Volume 78
      Volume 77
      Volume 76
      Volume 75
      Volume 74
      Volume 73
      Volume 72
      Volume 71
      Volume 70
      Volume 69
      Volume 68
      Volume 67
      Volume 66
      Volume 65
      Volume 64
      Volume 63
      Volume 62
      Volume 61
Search
VOLUME 77 (2003) | ISSUE 7 | PAGE 430
Подпороговое распыление при высоких температурах
PACS: 52.77.Bn, 81.65.Cf
Abstract
Обнаружено распыление вольфрама ионами дейтерия с энергией 5 эВ при температуре мишени во время облучения 1470 К в плотной стационарной плазме. Известный в литературе порог распыления вольфрама ионами дейтерия составляет 160-200 эВ. Измеренный по потере веса коэффициент распыления вольфрама при энергии ионов дейтерия 5 эВ равен 1.5•10-4 атом/ион, что обычно наблюдается при энергии 250 эВ. Распылению сопутствует изменение рельефа поверхности: протравливание границ зерен и образование на поверхности вольфрама волнистой структуры. Обнаруженное подпороговое распыление объясняется потенциальным распылением адсорбированных атомов вольфрама, поступающих на поверхность при высокой температуре из межзеренного пространства в результате освобождения из ловушек междоузельных атомов. Волнообразная структура на поверхности - результат объединения адсорбированных атомов в упорядоченные кластеры.