Home
For authors
Submission status

Archive
Archive (English)
Current
   Volumes 113-119
   Volumes 93-112
      Volume 112
      Volume 111
      Volume 110
      Volume 109
      Volume 108
      Volume 107
      Volume 106
      Volume 105
      Volume 104
      Volume 103
      Volume 102
      Volume 101
      Volume 100
      Volume 99
      Volume 98
      Volume 97
      Volume 96
      Volume 95
      Volume 94
      Volume 93
Search
VOLUME 111 (2020) | ISSUE 11 | PAGE 728
Термическая устойчивость водородных кластеров на поверхности графена и Стоун-Уэльсовского графена
DOI: 10.31857/S1234567820110026
Abstract
В рамках неортогональной модели сильной связи исследовалась возможность создания различных термически устойчивых элементов водородного рисунка на поверхности графена и Стоун-Уэльсовского графена - недавно предсказанного нового аллотропа графена. Численно исследована миграция атома водорода, адсорбированного на эти структуры. Энергия активации миграции атома водорода на поверхности графена ниже аналогичной энергии для Стоун-Уэльсовского графена, и данные величины равны, соответственно, 0.52 и 0.84 эВ. Исследована термическая устойчивость водородных кластеров, имеющих вид 6-и атомных колец на поверхности графена, а также 5, 6 и 7-и атомных колец на поверхности Стоун-Уэльсовского графена. Определены соответствующие энергии активации (они равны 1.61, 1.25, 1.36, и 1.27 эВ), а также частотные факторы термического распада в формуле Аррениуса. Даны оценки времен жизни этих кластеров при температурах замерзания и кипения воды.