Электронная структура и свойства двумерного диоксида кремния
Т. А. Хачатурова, В. Г. Бутько, А. А. Гусев1)
Донецкий физико-техничеcкий институт им. А. А. Галкина, 283114 Донецк, Украина
Abstract
В рамках теории функционала плотности методом
проекционных присоединенных волн проведены исследования электронной
структуры двумерного диоксида кремния. Результаты неэмпирических
расчетов существенно уточняются в GW-приближении. Рассмотрены
нанопленки толщиной от 0.35 до 1.76 нм с максимальным числом атомарных
слоев, равным 30. Показано, что запрещенная зона существенно зависит от
толщины двумерного нанокристалла и имеет три различных типа поведения.
Данное явление обусловлено сдвигом уровня Ферми, определяемым
соотношением атомов Si и O в элементарной ячейке.