JETP Letters: issues online

Сопоставлены эффекты воздействия электрических и деформационных высокочастотных полей на депиннинг и скольжение волны зарядовой плотности в квазиодномерном проводнике TaS₃. Для обоих типов полей исследованы зависимости величины порогового напряжения, V_t, (0-й ступеньки Шапиро) от амплитуды. Если с увеличением электрического высокочастотного поля, E_rf, видна тенденция к ускорению снижения V_t - росту |dV_t/dE_rf|, с увеличением деформационного поля снижение V_t насыщается. Результат показывает качественное различие механизмов воздействия электрических и деформационных полей на динамику волны зарядовой плотности и объясняется тем, что в первом случае модулируется скорость скольжения волны зарядовой плотности, а во втором - потенциал пиннинга. В практическом плане, результат позволяет отличить механическое воздействие на динамику волны зарядовой плотности от воздействия электрических наводок на той же частоте.