Моделирование процесса формирования нанопроводов Ir на поверхности Ge(001)
А. Г. Сыромятников, А. М. Салецкий, А. Л. Клавсюк
Московский государственный университет им. М. В. Ломоносова, 119991 Москва, Россия
Abstract
Впервые формирование нанопроводов иридия на поверхности
Ge(001) было исследовано с использованием теории функционала плотности и
кинетического метода Монте-Карло. Выявлено, что адатомы иридия
погружаются в поверхностный слой, в котором и происходит их диффузия.
Были выявлены основные диффузионные события, определяющие формирование
атомных проводов и их форму. Обнаружена анизотропия диффузии атома иридия
в поверхностном слое Ge(001). Выявлено, что отталкивание между атомом
иридия и димером иридия приводит к формированию нанопроводов, состоящих
из димеров, расположенных через один атомный ряд. Полученные результаты
хорошо согласуются с экспериментальными данными.