Спектральные свойства трехмерных волноводных структур, изготовленных методом двухфотонной лазерной литографии
А. И. Майдыковский+, А. С. Андросов*, Д. О. Апостолов+, К. А. Смирнов+, И. О. Батуев+, Т. В. Мурзина+
+Физический факультет, МГУ имени М. В. Ломоносова, 119991 Москва, Россия
*Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", 115409 Москва, Россия
Abstract
Развитие метода двухфотонной лазерной литографии для создания
оптических элементов с характерными размерами в единицы микрометров
является актуальной задачей. В данной работе представлены результаты
изготовления методом двухфотонной лазерной литографии из гибридного фоторезиста
OrmoComp оптических волноводов микронного диаметра,
оптически не связанных с подложкой и совмещенных с системой ввода-вывода
оптического излучения, основу которых составляют призменные адаптеры
полного внутреннего отражения. Рассчитаны и измерены спектры пропускания
всей структуры (адаптер входной-волновод-адаптер выходной) и
показано, что коэффициент пропускания в маломодовом режиме составляет 20-40
спектральном диапазоне 700-1650 нм.
Согласно расчетам, основной механизм потерь в такой структуре
определяется сильным рассеянием в зоне перехода конусной части адаптера в
волновод из-за сложной структуры оптического поля, нарушением режима
полного внутреннего отражения на призмах из-за высокой угловой апертуры
фокусируемого пучка излучения. Показана необходимость учета эффекта Гуса-Хенкен
при проектировании элементов сопряжения.