Home
| VOLUME 121 (2025) | ISSUE 9 | PAGE 737 |
|---|
|
Аморфизация кремния под воздействием ультракоротких лазерных импульсов среднего ИК диапазона
Н. И. Буслеев, П. П. Пахольчук, Н. А. Смирнов
Физический институт им. П. Н. Лебедева, 119991 Москва, Россия
Abstract
Проведено экспериментальное исследование процесса аморфизации поверхности пластины кристаллического кремния Si(111) толщиной 380 мкм под воздействием ультракоротких лазерных импульсов (длительность - 150 фс) среднего инфракрасного диапазона (4.0-5.4 мкм) с варьируемой плотностью энергии и экспозицией. Для данного спектрального диапазона были измерены пороговые значения поверхностной плотности энергии для аморфизации кремния. Была установлена зависимость объемной доли и толщины аморфной фазы материала от поверхностной плотности энергии и количества импульсов лазерного излучения для длины волны 5000 нм. |