Home
For authors
Submission status

Archive
Archive (English)
Current
   Volumes 93-112
   Volumes 113-123
      Volume 123
      Volume 122
      Volume 121
      Volume 120
      Volume 119
      Volume 118
      Volume 117
      Volume 116
      Volume 115
      Volume 114
      Volume 113
Search
VOLUME 123 (2026) | ISSUE 1 | PAGE 3
Оптическая спектроскопия метаморфных гетероструктур с квантовыми точками InAs/InGaAs, излучающими в диапазоне \boldsymbol{\sim} 1.55 мкм
Abstract
В работе методами структурной и оптической характеризации исследованы гетероструктуры с квантовыми точками InAs/InGaAs, излучающими в диапазоне длин волн \sim 1.55 мкм, содержащие метаморфные буферные слои InxGa1-xAs/GaAs(001) различной толщины и с различным профилем изменения состава, выращенные методом молекулярно-пучковой эпитаксии. Максимальная мольная доля In в слое переменного состава InxGa1-xAs составила x_{\max}=0.44 при его толщине, изменяющейся в диапазоне от 220 до 1100 нм. Установлена взаимосвязь между наблюдаемыми особенностями в спектрах фотоотражения и фотолюминесценции c параметрами метаморфных гетероструктур. Показано, что наиболее высокоэнергетическая S-образная особенность в спектрах фотоотражения связана с переходами в инверсном слое InxGa1-xAs, расположенном вблизи поверхности структуры. Наблюдаемое в спектрах низкотемпературной фотолюминесценции плечо на коротковолновой стороне широкого пика, связанного с излучением из квантовых точек InAs/InGaAs, позволяет соотнести его с переходами из верхней части метаморфных буферных слоев InxGa1-xAs.