Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 61-80
      Volume 80
      Volume 79
      Volume 78
      Volume 77
      Volume 76
      Volume 75
      Volume 74
      Volume 73
      Volume 72
      Volume 71
      Volume 70
      Volume 69
      Volume 68
      Volume 67
      Volume 66
      Volume 65
      Volume 64
      Volume 63
      Volume 62
      Volume 61
Search
VOLUME 79 (2004) | ISSUE 12 | PAGE 769
Стеклообразование в аморфном SiO2 как перколяционный фазовый переход в системе дефектов сети
PACS: 61.43.-j, 66.20.+d
Abstract
Термодинамические параметры дефектов сети (предположительно дефектных молекул SiO) аморфного SiO2 были найдены путем анализа вязкости расплава с помощью модели Доремуса. Экспериментальные данные вязкости наилучшим образом соответствуют расчетам с энтальпией и энтропией образования дефектов сети аморфного SiO2: Hd=220 кДж/мол и Sd=16.13R. Анализ концентрации дефектов сети с ростом температуры показал, что свыше температуры стеклования (Tg) дефекты кластеризуются, образуя динамические перколяционные кластеры. Этот результат согласуется с результатами молекулярного динамического моделирования, что позволяет рассматривать стеклование в аморфном SiO2 как перколяционный фазовый переход. Ниже Tg геометрия распределения дефектов сети эвклидова и имеет размерность d=3. Свыше температуры стеклования геометрия дефектов сети становится неэвклидовой с фрактальной размерностью df=2.5; Tg может быть рассчитана из условия возникновения перколяции в системе дефектов, что приводит к простой аналитической формуле для температуры стеклования: Tg=Hd/(Sd+1.735R). Вычисленная температура стеклования (1482 K) отлично согласуется с недавними измерениями Tg для аморфного SiO2 (1475 K).