Переход от сильной к слабой локализации в отщепленной примесной зоне в двумерных структурах p-GaAs/AlGaAs
Н. В. Агринская, В. И. Козуб, Д. В. Полоскин, А. В. Черняев, Д. В. Шамшур
Физико-технический Институт им. А. Ф. Иоффе РАН, 194021 Санкт-Петербург, Россия
PACS: 73.21.-b
Abstract
В двумерных модуляционно легированных структурах
GaAs/ Al0.3 Ga0.7As наблюдался кроссовер от
сильно локализацационного поведения к слабой локализации (WL-SL) с
ростом концентрации примесей в яме. При этом наблюдалось изменение
характера низкотемпературной зависимости проводимости (от
экспоненциальной к логарифмической), а также изменение знака
магнетосопротивления (от линейного отрицательного к корневому
положительному). Для 2D структур показано, что этот
переход происходит в примесной зоне, отделенной от валентной зоны
щелью подвижности, тогда как значение эффективной массы в
примесной зоне больше, чем в валентной зоне.