Электростатическая плазменная неустойчивость фотовозбужденных электронов в полупроводниках
Реклайтис А., Гружинскис В.
PACS: 72.30.+q, 72.40.+w
Теоретически показано, что в полупроводниках при низких температурах решетки с помощью постоянных скрещенных электрического и магнитного полей возможна реализация электростатической плазменной неустойчивости фотовозбужденных электронов.