Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 61-80
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 81-92
      Volume 92
      Volume 91
      Volume 90
      Volume 89
      Volume 88
      Volume 87
      Volume 86
      Volume 85
      Volume 84
      Volume 83
      Volume 82
      Volume 81
Search
VOLUME 81 (2005) | ISSUE 3 | PAGE 149
Нестабильность распределения атомных ступеней на Si(111) при субмонослойной адсорбции золота при высоких температурах
Abstract
Методом in situ сверхвысоковакуумной отражательной электронной микроскопии исследовано влияние адсорбции золота на распределение моноатомных ступеней на поверхности кремния (111) при температурах 850-1260 °C. Обнаружен новый эффект нестабильности морфологии поверхности кремния, который вызывает перераспределение регулярных ступеней (РС) в эшелоны ступеней (ЭС), и наоборот, на поверхности, содержащей субмонослойное покрытие золота. В условиях нагрева кристалла прямым пропусканием электрического тока установлена зависимость морфологических переходов РС \Leftrightarrow ЭС на поверхности кремния от степени покрытия золотом и направления нагревающего тока. Так, изотермический отжиг при 900 °С сопровождался следующими переходами на поверхности кремния с предварительно осажденным 0.75 МС золота: РС (0.72) \Rightarrow ЭС (0.42) \Rightarrow РС (0.24) \Rightarrow ЭС (0.07) \RightarrowРС (0). В скобках приведены оценочные значения критических покрытий золотом в монослоях, при которых наблюдались морфологические переходы. При смене направления электрического тока, используемого для нагрева кристаллла, происходило обратимое изменение РС \Rightarrow ЭС, а ЭС \Rightarrow РС при тех же значениях критических покрытий золотом.