Немонотонная температурная зависимость холловского сопротивления 2D системы электронов в Si
А. Ю. Кунцевич, Д. А. Князев, В. И. Козуб+, В. М. Пудалов, Г. Брунтхалер*, Г. Бауер*
Физический институт им. П. Н. Лебедева РАН, 119991 Москва, Россия
+Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН, 194021 С.-Петербург, Россия
*Institut für Halbleiterphysik, Johannes Kepler Universtät, Linz, Austria
PACS: 71.30.+h, 73.40.Qv
Abstract
Для двумерной системы электронов в кремнии измерена
температурная зависимость холловского сопротивления ρxy(T)
в слабом магнитном поле, в той области температур (1-35) К
и концентраций носителей n, в которой диагональная компонента сопротивления
демонстрирует "металлическое" поведение. Обнаружено, что
зависимости ρxy(T) при разных n немонотонны и имеют максимум при
температуре . При низких температурах
(T<T max) изменение δρxy(T) существенно превышает
квантовую поправку за счет взаимодействия и качественно
согласуется с квазиклассическим результатом, учитывающим только
уширение фермиевского распределения. При высоких температурах
(T>T max) зависимость ρxy(T) может быть
качественно объяснена как температурной зависимостью
времени рассеяния, так и термоактивацией носителей из
зоны локализованных состояний.