|
VOLUME 81 (2005) | ISSUE 10 |
PAGE 642
|
Аккумуляционный зарядовый слой на поверхности n-GaN (0001) с ультратонкими Ва покрытиями
Г. В. Бенеманская, Г. Э. Франк-Каменецкая
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН 194021 Санкт-Петербург, Россия
PACS: 73.20.-r, 79.60.Dp
Abstract
Исследована адсорбция Ва на поверхности GaN(0001) n-типа.
Обнаружено, что субмонослойные покрытия Ва вызывают кардинальные изменения
электронных свойств поверхности с образованием зарядового аккумуляционного
слоя в области приповерхностного изгиба зон. Найдена фотоэмиссия при
возбуждении системы Ва/n-GaN светом из области прозрачности GaN.
Определено, что минимальное значение работы выхода соответствует
эВ при Ва покрытии ML. В спектрах поверхностной
фотоэмиссии обнаружены две поверхностные зоны, индуцированные адсорбцией Ва.
|
|