Поляризационно-зависимая баллистическая фотоэдс в структуре металл-проводник
Альперович В.Л., Белиничер В.И., Браславец А.В., Ефанов А.В., Мощенко С.П., Терехов А.С., Энтин М.В.
Обнаружено, что баллистическая фотоэдс в арсениде галлия, обусловленная взаимодействием фотоэлектронов с границей металл полупроводник, содержит поляризационно-зависимую компоненту, связанную с гофрировкой валентной зоны.