Структурный и сверхпроводящий фазовые переходы в V3Si с различной концентрацией дефектов
Хлопкин М.Н.
Экспериментально исследованы зависимости температур структурного перехода 7*м и сверхпроводящего перехода Τ от концентрации дефектов в и нте ρ металл и чес ком соедине-нии V3 Si. Τ монотонно падает с увеличением концентрации дефектов, а Τ достигает мак-симумапри совпадении температур структурного и сверхпроводящего переходов.