Отрицательная межзонная фотопроводимость в гетероструктурах Ge/Si с квантовыми точками 2-го типа
Якимов А.И., Двуреченский А.В., Никифоров А.И., Пчеляков О.П.
PACS: 73.20.Mf, 73.50.Pz
Обнаружено, что при освещении массива нанокластеров Ge в n-Si светом, вызывающим межзонные переходы, возникает отрицательная фотопроводимость. Полученный результат объяснен локализацией равновесных электронов на гетерогранице Si/Ge в потенциале неравновесных дырок, захваченных на глубокие состояния в островках Ge.