Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 61-80
      Volume 80
      Volume 79
      Volume 78
      Volume 77
      Volume 76
      Volume 75
      Volume 74
      Volume 73
      Volume 72
      Volume 71
      Volume 70
      Volume 69
      Volume 68
      Volume 67
      Volume 66
      Volume 65
      Volume 64
      Volume 63
      Volume 62
      Volume 61
Search
VOLUME 71 (2000) | ISSUE 12 | PAGE 730
Об осцилляционной зависимости сопротивления трехслойных гетероэпитаксиальных (001) пленок Mo/Nb/Mo
PACS: 73.40.-c
Обнаружена осцилляционная зависимость электросопротивления трехслойной ге-тероэпитаксиальной (001) пленки Мо(35 HM)/Nb(dNh)/Mo(35 нм) от толщины йщь ультратонкой внутренней прослойки из Nb. Период осцилляции составляет один монослой (0.16 нм). Минимум сопротивления такой пленки соответствует толщине прослойки из Nb с незавершенным на половину мокослоем и равен сопротивлению индивидуальных пленок Мо толщиной 70 нм, эквивалентной полной толщине трехслойной пленки. В этом случае трехслойная пленка проводит как целое. Сопротивление трехслойной пленки с завершенным монослоем Nb соответствует максимуму и равно сопротивлению двух индивидуальных пленок Мо половинной толщины (35 нм), соединенных параллельно. Полученные результаты объясняются существенным влиянием встроенного потенциала, величина и рассеивающие свойства которого периодически зависят от толщины прослойки из Nb.