Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 61-80
      Volume 80
      Volume 79
      Volume 78
      Volume 77
      Volume 76
      Volume 75
      Volume 74
      Volume 73
      Volume 72
      Volume 71
      Volume 70
      Volume 69
      Volume 68
      Volume 67
      Volume 66
      Volume 65
      Volume 64
      Volume 63
      Volume 62
      Volume 61
Search
VOLUME 69 (1999) | ISSUE 6 | PAGE 423
О механизме переноса никеля вдоль поверхности Si(111) в присутствии адсорбированных атомов кобальта
Методами дифракции медленных электронов и электронной оже-спектроскопии установлен механизм переноса никеля вдоль поверхности Si(lll) в присутствии адсорбированных атомов кобальта. Этот механизм заключается в диффузии атомов никеля через объем и их сегрегации на поверхность в процессе отжига. Роль этого механизма в переносе никеля становится определяющей при температурах ниже 700° С, при которых перенос никеля вдоль чистых поверхностей кремния не наблюдается. Установлено, что нижняя температура, при которой наблюдается перенос никеля на чистых поверхностях кремния определяется коэффициентом сегрегации никеля.