Влияние оптического излучения на магнитный резонанс в трехслойных пленках Fe/Si/Fe
Патрин Г.С., Волков Н.В., Кононов В.П.
PACS: 75.70.-i, 76.50.+g, 78.20.Ls
В трехслойных пленках системы Fe/Si/Fe обнаружено фотоиндуцированное изменение параметров магнитного резонанса. Исследованы зависимости сдвигов резонансного поля, а также характер межслоевого взаимодействия от температуры, освещенности пленок и толщины кремниевой прослойки. Установлено, что при низких температурах фотоиндуцированный вклад в константу обменного взаимодействия между слоями железа является антиферромагнитным.