Аномальное поведение текстур в магнитном поле
Сатанин А.М., Скузоваткин В.В.
Показано, что в двумерных двухфазных текстурах в магнитном поле возможен качественно новый тип перехода в нелинейную фазу. Изучен аномальный рост эффективного отклика (высших корреляторов тока) вблизи критического магнитного поля. Вычислена зависимость критического магнитного поля от углов микровключений. PACS: 71.30.4-h, 73.50.-h