Сегрегация бора, имплантированного в кремний, на угловых конфигурациях границы окисления кремний/двуокись кремния
Г. А. Тарнавский, С. И. Шпак, М. С. Обрехт+ 1)
Институт теоретической и прикладной механики СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
+Siborg System Inc., University of Waterloo, N2L3G1 Ontario, Canada
PACS: 02.70.-c, 66.30.Jt, 68.10.Gw
Abstract
На основе компьютерного моделирования физико-химического
процесса сегрегации легирующих примесей, имплантированных в
базовый материал (кремний), изучаются особенности инжекции бора
B на 4 типах угловых конфигурациях границы окисления
"кремний/двуокись кремния" (прямой и обратный уступы, каверны
типа "траншея" и "квадрат"), получены и проанализированы в
главных чертах сложные картины распределения концентраций B в
областях Si, SiO2 и фронте
SiO2/Si.