Изготовление субмикронных структур методом трехмерной лазерной литографии
И. И. Шишкин+*, М. В. Рыбин+*, К. Б. Самусев+*, М. Ф. Лимонов+*, Р. В. Киян×, Б. Н. Чичков×, Ю. С. Кившарь+°, П. А. Белов+
+С.-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики,
197101 С.-Петербург, Россия
*Физико-технический институт им. Иоффе РАН, 194021 Санкт-Петербург, Россия
×Laser Zentrum Hannover e.V., D-30419 Hannover, Germany
°Nonlinear Physics Center, Australian National University, ACT 0200 Canberra, Australia
Abstract
В работе продемонстрированы уникальные возможности метода
трехмерной лазерной литографии на примере создания демонстрационного
микрообъекта сложной формы и фотонных кристаллов типа "поленница" для
инфракрасного диапазона электромагнитного спектра. Произведен расчет фотонных
дисперсионных ветвей структуры типа "поленница" в зависимости от контраста
диэлектрической проницаемости и фактора заполнения.