Механизм транспорта заряда в тонких пленках аморфного и сегнетоэлектрического Hf0.5Zr0.5O2
Д. Р. Исламов+*, А. Г. Черникова×, М. Г. Козодаев×, А. М. Маркеев×, Т. В. Перевалов+*, В. А. Гриценко+*, О. М. Орлов°
+Институт физики полупроводников им. Ржанова СО РАН, 630090 Новосибирск, Россия
*Новосибирский государственный университет, 630090 Новосибирск, Россия
×Московский физико-технический институт, 141700 Долгопрудный, Россия
°Научно-исследовательский институт молекулярной электроники, 124460 Зеленоград, Россия
Abstract
Исследован механизм транспорта заряда в тонких аморфных и
сегнетоэлектрических пленках Hf0.5Zr0.5O2.
Показано, что в изучаемых материалах механизм транспорта
не зависит от кристаллической фазы и
является фонон-облегченным туннелированием между ловушками.
В результате сравнения экспериментальных
вольт-амперных характеристик структур
TiN/Hf0.5Zr0.5O2/Pt
с рассчитанными
определены параметры ловушки:
термическая энергия 1.25 эВ и
оптическая энергия 2.5 эВ.
Оценена концентрация ловушек:
.