Новый вид пиннинга волны зарядовой плотности в кристаллах ромбического TaS3 с дефектами закалки
В. Е. Минакова, А. М. Никитина, С. В. Зайцев-Зотов
Институт радиотехники и электронии РАН, 125009 Москва, Россия
Abstract
В ромбическом TaS3 изучен характер пиннинга волны зарядовой
плотности
(ВЗП) дефектами закалки, что стало возможным благодаря обнаруженному
эффекту
изменения концентрации этих дефектов при термоциклировании образцов
в области температур ниже температуры пайерлсовского перехода T<TP.
Обнаружен ряд принципиальных отличий от пиннинга обычными
локальными центрами - примесями и точечными дефектами.
Это позволило предположить, что дефекты закалки являются протяженными
(нелокальными) объектами (предположительно, дислокациями),
способными диффундировать из кристалла при низкотемпературном
термоциклировании вследствие их сильного взаимодействия с волной зарядовой плотности,
присущего пайерлсовскому проводнику.
Наличие этих дефектов приводит к неизвестному ранее нелокальному виду
пиннинга волны зарядовой плотности с отличающимся от локального пиннинга влиянием на TP
и пороговое поле начала скольжения волны зарядовой плотности ET.