Двухфотонная лазерная литография активных резонаторных микроструктур
А. И. Майдыковский+, Е. А. Мамонов+*, Н. В. Митетело+, С. Сориа× 1), Т. В. Мурзина+ 2)
+Физический факультет МГУ им. М. В. Ломоносова, 119991 Москва, Россия
*Факультет физики, Национальный исследовательский университет "Высшая школа экономики", 109028 Москва, Россия
×CNR-IFAC, Istituto di Fisica Applicata "Nello Carrara", Consiglio Nazionale delle Ricerche,
via Madonna del Piano 10, I50019 Sesto Fiorentino (FI), Italy
Abstract
Создание активных флуоресцентных микроструктур с заданными
параметрами является важной задачей интегральной оптики. Одним из
наиболее эффективных методов изготовления таких микроструктур является
метод лазерной двухфотонной литографии. Однако большинство
используемых в данной технологии полимеров обладают относительно низким
квантовым выходом флуоресценции. В данной работе исследованы свойства
резонаторных микроструктур, полученных указанным методом из гибридных
полимеров с добавлением различных красителей. Продемонстрирована
возможность формирования качественных микроструктур из активированных
полимеров, сохранение их люминесцентных свойств после полимеризации в
поле интенсивного лазерного излучения, а также снижение экспозиции
лазерной двухфотонной литографии
на 2 порядка при наличии в полимере красителя Кумарин-1. Методом
нелинейной оптической микроскопии показано, что в микрорезонаторных
структурах на основе полимера с красителем реализуется пространственное
распределение рассеяного излучения флуоресценции, соответствующее
возбуждению резонаторных мод или мод шепчущей галереи.