Home
For authors
Submission status

Archive
Archive (English)
Current
   Volumes 93-112
   Volumes 113-120
      Volume 120
      Volume 119
      Volume 118
      Volume 117
      Volume 116
      Volume 115
      Volume 114
      Volume 113
Search
VOLUME 115 (2022) | ISSUE 5 | PAGE 297
Двухфотонная лазерная литография активных резонаторных микроструктур
Abstract
Создание активных флуоресцентных микроструктур с заданными параметрами является важной задачей интегральной оптики. Одним из наиболее эффективных методов изготовления таких микроструктур является метод лазерной двухфотонной литографии. Однако большинство используемых в данной технологии полимеров обладают относительно низким квантовым выходом флуоресценции. В данной работе исследованы свойства резонаторных микроструктур, полученных указанным методом из гибридных полимеров с добавлением различных красителей. Продемонстрирована возможность формирования качественных микроструктур из активированных полимеров, сохранение их люминесцентных свойств после полимеризации в поле интенсивного лазерного излучения, а также снижение экспозиции лазерной двухфотонной литографии на 2 порядка при наличии в полимере красителя Кумарин-1. Методом нелинейной оптической микроскопии показано, что в микрорезонаторных структурах на основе полимера с красителем реализуется пространственное распределение рассеяного излучения флуоресценции, соответствующее возбуждению резонаторных мод или мод шепчущей галереи.