Корреляционная кулоновская щель при магнитотуннелировании между слоями графена1)
Ю. Н. Ханин+, Е. Е. Вдовин+, С. В. Морозов+, К. С. Новоселов* 2)
+Институт проблем технологии микроэлектроники и особо чистых материалов РАН, 142432 Черноголовка, Россия
*Institute for Functional Intelligent Materials, National University of Singapore, Building S9, 4 Science Drive 2, 117544 Singapore
Abstract
Обнаружено сильное подавление равновесного магнитотуннелирования в
гетероструктуре графен/hBN/графен, обусловленное корреляционной кулоновской
щелью в туннельной плотности состояний. Сравнение подавления равновесной
туннельной проводимости G0 в сильном магнитном поле при понижении температуры и
зависимости ширины наблюдаемой щели Δ от величины фактора заполнения уровней
Ландау ν с результатами аналогичных экспериментов в GaAs гетероструктурах показало их
качественное подобие и подтвердило нашу гипотезу о природе эффекта. При этом,
однако, полученная нами величина Δ значительно превосходит измеренные во всех
предыдущих работах в полупроводниковых гетероструктурах, что связано, вероятно, с
большим масштабом циклотронных энергий в графене по сравнению с GaAs в интервале
нижних уровней Ландау.