Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 61-80
      Volume 80
      Volume 79
      Volume 78
      Volume 77
      Volume 76
      Volume 75
      Volume 74
      Volume 73
      Volume 72
      Volume 71
      Volume 70
      Volume 69
      Volume 68
      Volume 67
      Volume 66
      Volume 65
      Volume 64
      Volume 63
      Volume 62
      Volume 61
Search
VOLUME 76 (2002) | ISSUE 5 | PAGE 337
Влияние многократного рассеяния на ширину линии параметрического рентгеновского излучения релятивистских электронов в кристалле
Abstract
Показана значительная роль многократного рассеяния в формировании ширины линии параметрического рентгеновского излучения "назад" релятивистских электронов в кристалле. Предложена теория ширины линии этого излучения, основанная на методе функционального интегрирования. Показано, что задача о влиянии многократного рассеяния на параметрическое рентгеновское излучение аналогична задаче об эффекте Ландау-Померанчука-Мигдала влияния многократного рассеяния на тормозное излучение электронов большой энергии в аморфной среде.