|
VOLUME 72 (2000) | ISSUE 5 |
PAGE 382
|
Неустойчивость и реконструкция тонкой пленки жидкости в инверсионных условиях
Шикин В.Б.
PACS: 68.35.Rh
Обсуждается задача о развитии механической неустойчивости нейтральной пленки жидкости (жидкий гелий или водород) в инверсионных условиях (пленка не лежит на твердой подложке, а висит на потолке). Определены критические параметры подобной неустойчивости и характер реконструкции поверхности пленки под влиянием сил Ван-дер-Ваальса, Лапласа и гравитации. Отмечена связь с известной задачей Френкеля об одиночных каплях на твердой подложке. Предлагается электростатический механизм стимуляции неустойчивости тонкой пленки гелия, имеющий перспективы в задаче об утечках сверхтекучего гелия.
|
|